КОМБІНОВАНА ОПТИЧНА МЕТОДИКА КОНТРОЛЮ ФІЗИЧНИХ ПАРАМЕТРІВ ТОНКИХ ДІЕЛЕКТРИЧНИХ ПЛІВОК НА ПОВЕРХНІ МОНОКРИСТАЛІЧНОГО КРЕМНІЮ

Анотація

Запропоновано комбіновану оптичну методику контролю фізичних параметрів тонких діелектричних плівок на поверхні монокристалічного кремнію. Методика складається з двох етапів: 1) еліпсометричні вимірювання діелектричних плівок на поверхні кремнієвих пластин, 2) вимірювання спектрів відбивання діелектричних плівок з метою одержання виразної інтерференційної картини. На першому етапі дають відповідь на питання про застосовність моделі “прозора оптично ізотропна плівка – поглинаюча оптично ізотропна підкладка” до одержаних у технологічному процесі систем “плівка-підкладка”, і визначають товщину плівки. На другому етапі досліджують дисперсію показника заломлення діелектрика. На підставі результатів досліджень на двох етапах роблять висновок про придатність чи непридатність досліджуваного об’єкту до подальшого технологічного процесу виготовлення інтегральних мікросхем. Застосовність методики перевірено на системах Si₃N₄ – Si.

Ключові слова: тонкі діелектричні плівки, еліпсометрія, інтерференція, дисперсія показника заломлення.